通用超声波清洗机清洗零件实用性强，已遍及使用于电子、钟表、光学、机器、汽车、航空、原子能财制作、医疗器械等许多行业。 专用超声波清洗机通常安设在某些特定物件清洗的生制作流水线上。 楷模的软磁器件超声波清洗设施，被清洗物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗槽清洗，再经喷淋、烘干等工序后出料，半导体清洗机厂家，实现被清洗物件可直接包装入库。
各工序简要说明以下：
进料：物件进料可采用半踊跃进料或出料：物件出料可采用踊跃收料或手工收料法子，格被清洗物件装入包装盒内。 经过上述工序就完成为了物件实现利用超声波清洗的全过程。 目前，还有一种超声汽相清洗机，它是选用有机溶剂作清洗液，具有极强的溶解污垢的才干，用于清洗半导体晶片等净治度申请特别高的物件。
清洗缸：清洗缸是用来装载清洗液及被清洗工件的不锈钢容器，大多数工件可先装在网状框架内，再一同放人缸内清洗。
清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响
清洗液的静压力大时，不容易产生空化，所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差
清洗剂的选择要从两个方面来考虑：一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂；另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂，因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化，但是当声强超过空化阈值时，空化泡崩溃释放的能量也大，有利于清洗；高蒸气压的液体会降低空化强度，而液体的粘滞度大也不容易产生空化，因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。
此外，半导体清洗机，清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响，半导体清洗机质量，清洗液温度升高时空化核增加，电子半导体清洗机，对空化的产生有利，但是温度过高，气泡中的蒸气压增大，空化强度会降低，所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响，也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度，水较适宜的温度是60-80℃，此时空化最活跃。
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