主要用途
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，三氟化氮价格，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
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化学性质
稳定性
化学性质稳定，一般条件下在水与碱溶液中均不反应（三校合编无机化学第四版下册534页），只有当放电时在水中才发生NF3+2H2O==放电==HNO2+3HF。F的 电负性大于H，因此NF3中的孤对电子云由于向F偏移而导致 电子云 密度比在NH3中低，配位能力下降，因此 质子化时放热小于NH3。 偶极矩与上面类似，三氟化氮气瓶，大概就是由于 电负性的增强导致偶极矩的降低。
禁配物： 还原剂、易燃或可燃物。
急性毒性
LD50
LC50：19000mg/m3，1小时(大鼠吸入)；5600mg/m3，4小时(小鼠吸入)
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