清洗的注意事项：
(1)关机重启后，时间间隔1分钟以上，否则可能会造成电气损坏；
(2)设备运行中，注意去离子水流量不得超过允许值，否则可能由于排放受阻而造成机器损坏；
(3)每次运行完毕后取出片子时，SC-1清洗设备，注意卡塞口是否朝上，纠正后再取出，否则片子会掉出来；
(4)一旦发现水路的关联件出现“漏水”、“滴水”现象应立即关机，SC-1清洗台，检修后再运行。
表面清洗正成为此类半导体加工中不断出现的问题。这是因为衬底晶体的低劣质量（而不是其表面洁净度）不再是限定与那些材料有关的制造良率的主导因素。随着各种半导体材料衬底单晶质量的提高，SC-1，考虑因素就会变化，会对清洗技术给予更加密切的关注。
RCA清洗法 ：
最初，人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年，SC-1清洗机哪家好， RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于最初的RCA清洗法。
SC-1清洗设备、苏州晶淼半导体、SC-1由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。“半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备”就选苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com），公司位于：苏州工业园区金海路34号，多年来，苏州晶淼半导体坚持为客户提供优质的服务，联系人：王经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。苏州晶淼半导体期待成为您的长期合作伙伴！