氨水加氧化剂清洗液：
在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，晶圆清洗设备，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，造成产品质量下降，晶片清洗设备，因此应控制合适的温度和清洗时间，并及时用水漂洗干净。
苏州晶淼半导体设备有限公司，天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务，清洗设备，成为湿制程设备供应商的典范！
清洗的设备仪器
主要以湿法清洗为主，以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机：循环去离子(DI)水，对蓝宝石进行冲洗；形成局部通风区域，对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。
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