氨水加氧化剂清洗液：
在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，刻蚀清洗台，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，清洗台，造成产品质量下降，湿法清洗台，因此应控制合适的温度和清洗时间，并及时用水漂洗干净。
清洗安全操作规范：
(1)药品使用完后，必须把瓶盖拧紧并放到安全处；
(2)工作台前的外窗门，在使用时和使用后，均应拉下封闭，防止试剂污染晶片和超净间，危害员工健康；
(3)废液回收时一定要两人同时在场。
超声清洗：
腐蚀后的MCP是由微米级细孔构成的复杂网状结构，普通的清洗方法一般不能达到孔内，而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用有机溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染，而且能深入MCP孔内的效果。
刻蚀清洗台|苏州晶淼半导体|清洗台由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com）为客户提供“半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备”等业务，公司拥有“苏州晶淼半导体设备”等品牌。专注于其它等行业，在江苏 苏州 有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：王经理。