清洗的设备仪器
主要以湿法清洗为主，RCA清洗台，以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机：循环去离子(DI)水，酸清洗台，对蓝宝石进行冲洗；形成局部通风区域，清洗台，对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。
像兆频超声搅动这样的物理辅助手段对结构损伤和图形坍塌等有潜在影响，正在对其改进，以便在保持微粒去除工艺效率的同时不对图形完整性产生有害影响。考虑到表面形态的原子级恶化都可能对器件性能会有致命影响，即使像DI水清洗等这些看起来最良性的清洗程序元素也必须重新评估。
半导体清洗机设备生产线用于PI COAT前清洗设备，描述了LCD生产线（以CSTN为主）上使用的PI COAT清洗设备的主要清洗艺流程及设备的主要组成部分，包括清洗、漂洗、气刀、风干、IR、UV清洗干燥、CP降温、冷却干燥等。
RCA清洗台_清洗台_苏州晶淼半导体(查看)由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com）是江苏 苏州 ,其它的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，很大限度的满足客户需求。在苏州晶淼半导体领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创苏州晶淼半导体更加美好的未来。