氨水加氧化剂清洗液：
在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，无锡半导体清洗机，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，苏州半导体清洗机，造成产品质量下降，因此应控制合适的温度和清洗时间，并及时用水漂洗干净。
超声清洗：
腐蚀后的MCP是由微米级细孔构成的复杂网状结构，半导体清洗机，普通的清洗方法一般不能达到孔内，而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用有机溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染，而且能深入MCP孔内的效果。
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