无锡半导体清洗机,苏州晶淼半导体,半导体清洗机

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品牌 苏州晶淼半导体
总量 不限
包装 不限
物流 货运及物流
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产品详情

       苏州晶淼半导体设备有限公司,半导体清洗机,我们的每台设备除标准化制作外,上海半导体清洗机,还可根据客户的工艺需求和工作环境的具体要求,对设备进行人性化、个性化设计,极大限度的将客户的想法转化为实际应用。能完全满足规模化生产和研发需求。


氨水加氧化剂清洗液

   氨水加氧化剂清洗液配方为: NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20,温度为25~40℃,昆山半导体清洗机,时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性、氧化性和络合性,可以发生氧化反应、产生微蚀刻作用,以达到去除表面颗粒的目的,可以去除一些有机污染物及部分重金属离子污染物。



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