随着微粒和金属污染的数量级逐渐减小，广东半导体酸洗设备，以及对这方面的污染控制非常有效，现在更多注意的是有机污染和表面状态相关问题。用简单的灯清洗法可以把有机污染从Si表面除去。此外，应特别注意溶解在水内和气相的臭氧在控制有机污染中的作用。
超声清洗：
腐蚀后的MCP是由微米级细孔构成的复杂网状结构，酸洗设备，普通的清洗方法一般不能达到孔内，深圳酸洗设备，而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用有机溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源，然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染，而且能深入MCP孔内的效果。
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