RCA清洗法 ：
最初，人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年，太仓湿法清洗机设备， RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，湿法清洗机，并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于最初的RCA清洗法。
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