氨水加氧化剂清洗液：
在表面污物被氧化和刻蚀的同时也会发生MCP表面粗糙现象，昆山晶圆清洗系统，造成MCP表面“发毛”和划道或路子等伤害，晶圆清洗，造成产品质量下降，因此应控制合适的温度和清洗时间，晶圆清洗机厂家，并及时用水漂洗干净。
硅材料表面的颗粒、有机物、金属、吸附分子、微粗糙度、自然氧化层等严重影响器件性能，清洗不佳引起的器件失效已超过集成电路制造中总损失的一半。因此，硅片清洗技术成为硅材料加工和半导体工艺研究的一大热点。
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