RCA清洗法：依靠溶剂、酸、表面活性剂和水，在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。酸洗设备。在每次使用化学品后都要在超纯水（UPW）中彻底清洗。无锡半导体酸洗设备。以下是常用清洗液及作用。
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