技术前景
除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC， IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型，陶瓷器件，用于研发和实验。同时，苏州陶瓷器件，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻机性能指标
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
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