氨水加氧化剂清洗液
氨水加氧化剂清洗液配方为: NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20，温度为25~40℃，时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性、氧化性和络合性，半导体清洗工艺，可以发生氧化反应、产生微蚀刻作用，半导体清洗，以达到去除表面颗粒的目的，可以去除一些有机污染物及部分重金属离子污染物。
清洗安全操作规范：
(1)药品使用完后，必须把瓶盖拧紧并放到安全处；
(2)工作台前的外窗门，半导体清洗设备，在使用时和使用后，均应拉下封闭，防止试剂污染晶片和超净间，危害员工健康；
(3)废液回收时一定要两人同时在场。
苏州晶淼半导体(图)、半导体清洗工艺、半导体清洗由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com）坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支专业的员工队伍，力求提供好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。苏州晶淼半导体——您可信赖的朋友，公司地址：苏州工业园区金海路34号，联系人：王经理。