技术前景
除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC， IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型，陶瓷弯手臂，用于研发和实验。同时，陶瓷环，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。由于我们的客户遍布全国各地，我们有专业的设备存储，陶瓷直手臂，运输及调试的一条龙服务团队。
分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动A手动：指的是对准的调节方式，陶瓷，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了
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