张家港晋宇达电子科技有限公司客户主要分布在北京，上海，苏州，无锡，绍兴，东莞光刻机备件，深圳，东莞光刻机，东莞，厦门，福州，西安等地区。
扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。
光刻机
传统光刻机的投影物镜多采用全折射式设计方案，东莞光刻机厂，即物镜全部由旋转对准装校的透射光学元件组成。其优点是结构相对简单，易于加工与装校，光刻机，局部杂散光较少。然而，大数值孔径全折射式物镜的设计非常困难。为了校正场曲，必须使用大尺寸的正透镜和小尺寸的负透镜以满足佩茨瓦尔条件，即投影物镜各光学表面的佩茨瓦尔数为零。
东莞光刻机厂|晋宇达|光刻机由张家港晋宇达电子科技有限公司提供。张家港晋宇达电子科技有限公司（www.jinyd.net）是江苏 苏州 ,其它的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，很大限度的满足客户需求。在晋宇达领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创晋宇达更加美好的未来。