光刻机
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，无锡半导体前道设备，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，常州半导体前道设备，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
光刻机的演变及今后发展趋势
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，半导体前道设备，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束曝光机和光学光刻机的结合，实现产业需要的各种图形的制备。
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