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步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，无锡步进光刻机，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。
光刻机的匹配调整是-项非常复杂的工作，在进行调整时，以下几点准则应当遵循：
●匹配使用的光刻机，步进光刻机，首先应该是各单台光刻机调整到设备本身的最.佳状态，北京步进光刻机，各项技术指标必须在设备规定的范围之内。
●设备进行匹配调整时，东莞步进光刻机，凡是能通过软件修正量的改变能实现的尽量使用软件方式来调整，因为软件调整是可改变的，可恢复的。而机器硬件调整的可恢复性比较差，特别是有严格精度要求的，基本上没有硬件调整的余地。
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