等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入反应室被真空泵抽真空，等离子处理设备，气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计是富有弹性的，等离子表面处理机，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE)，顺流等离子体(downstream)，直接等离子体(directionplasma)。
等离子体清洗技术的清洗原理、清洗类型、清洗设备及清 洗特点，等离子发生器，分析了等离子体清洗技术的发展现状，着重介绍了等离子体清洗技术在航空航天制造业中铝合金表面涂装前处理、电连接器涂胶前处理、复合材料表面处理 和芳纶制件表面处理等应用，并分析了其在航空航天领域的应用前景。
随着微电子技术及工艺的飞速发展，等离子，湿法清洗技术越来越暴露出其一定的局限性。然而，干法清洗技术不但能够避免湿法清洗带来的环境污染问题，同时也使生产效率也大大得到了提高。通过大量的实践，等离子体清洗技术在干法清洗中优势非常明显。
