按照清洗机序言的不同，半导体酸洗设备，又概略分为湿式清洗机与干式清洗机：一样平常将在液体介质中发展的清洗机称为湿式清洗机，在气体介质中发展的清洗机称为干式清洗机．保守的清洗机门径大多为湿式清洗机，而人们比较容易明确的干式清洗机也即是吸尘器．但迩来几年来，半导体清洗设备，干式清洗机发展麻利．如激光清?洗．紫内线清洗机，等离子清洗机、干冰清洗机等，在高。精，尖财打造手艺范畴得到快速发展．
超周详清洗机包罗周详财发作打造过程当中对机械整机、电子元件，光学部件等的超周详清洗机，以革除极细微污垢颗粒为目的。
一样平常财打造清洗机包罗车辆，轮船、飞机外表的清洗机，一样平常只能去掉比较轻微的污垢；
清洗安全操作规范：
(1)操作前，半导体清洗机，一定要检查工作台通风是否良好，如有异常，向上级汇报或向动力保障部门说明情况，请求调整；
(2)在通风橱里开启药品，并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套；
(3)试剂开启前，半导体，都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶；
(4)拧开药品盖后，取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶，在倾倒药品时，一定要确定塑封膜是否在瓶上。
硅清洗技术经历了持续的发展改进，包括早期用气相等效物替代在湿化学品中进行的部分清洗操作。难以置信的是，现代先进的Si清洗仍然依赖于大体上同一组化学溶液，不过它们的制备和送至晶圆的方法与最初提出的已大不相同。此外，传统上用湿清洗化学品做的表面选择清洗/修整功能现在是在气相中做的。
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