湿制程清洗机,清洗,苏州晶淼半导体(查看)

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湿制程清洗机,清洗,苏州晶淼半导体(查看)

清洗的设备仪器      主要以湿法清洗为主,以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机:循环去离子(DI)水,对蓝宝石进行冲洗;形成局部通风区域,清洗,对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。 超声清洗:  腐蚀后的MCP是...


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清洗的设备仪器

      主要以湿法清洗为主,以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机:循环去离子(DI)水,对蓝宝石进行冲洗;形成局部通风区域,清洗,对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。





超声清洗:

  腐蚀后的MCP是由微米级细孔构成的复杂网状结构,普通的清洗方法一般不能达到孔内,而孔内芯料的反应生成物及其他污染物会在后序工艺中会产生重复污染。无论是采用有机溶剂或是清洗液清洗都容易引入新的污染源,湿制程清洗机,然而利用超声波清洗技术却可以实现无重复污染,而且能深入MCP孔内的效果。



超声波清洗机的两大分类

超声波制作生器:超声波清洗机用的超声波制作生器,半导体清洗台,从使用的元器件种类梗概分电子管式的,可控硅式的和晶体管式的。近几年来也曾发展到用大功率“功率模块”的法子。其输出功率从几十瓦直到几千瓦,任务频率从15kHz—40kHzo 超声波清洗机用的超声波制作生器有以下本色:

(1)随着清洗液深度不同,换能器共振频率和阻抗变卦很大。然则理论批注,槽内放进过量清洗物后,根蒂底子上便梗概摇动在某一定数值上。

(2)通常来说,湿制程清洗设备,因为清洗负载转变较小,梗概不申请冗杂的频率踊跃跟踪电路。

(3)适用超声波制作生器,大多数采用大功率自激式反应振荡器。


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