主要用途
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，三氟化氮，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，三氟化氮出口，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
三氟化氮储存及运输
NF3气瓶应储存于阴凉、通风仓库内，扬州三氟化氮，仓库温度不宜超过30℃。NF3气瓶应远离火种、热源、防止阳光直射，与还原剂、易燃或可燃物等分开存放。NF3气瓶在搬运时要轻装、轻卸，防止钢瓶及附件破损。NF3气瓶的运输按危险品运输。运输时用气瓶固定架将NF3气瓶固定好，用汽车公路运输或用轮船集装箱运输。
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