计算化学数据
1、疏水参数计算参考值（XlogP）：1.9
2、氢键供体数量：0
3、氢键受体数量：4
4、可旋转化学键数量：0
5、互变异构体数量：无
6、拓扑分子极性表面积（TPSA）：3.2
7、重原子数量：4
8、表面电荷：0
9、复杂度：8
10、同位素原子数量：0
11、确定原子立构中心数量：0
12、不确定原子立构中心数量：0
13、确定化学键立构中心数量：0
14、不确定化学键立构中心数量：0
15、共价键单元数量：1
简 介
三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，三氟化氮，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），三氟化氮厂家，它在蚀刻时，盐城三氟化氮，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
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