晋宇达电子公司透过从技术维修服务的突破性整合，致力缔造企业核心竞争力，以客户为中心、服务为核心和销售作为经营理念，为大陆提供优质服务为宗旨的企业思想，对于一些重点客户及在长三角，杭州步进光刻机，珠三角，常州步进光刻机，北京等地。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
传统光刻机的演变和所面临的挑战
光刻机是诸多现代技术高度集成的产物， 这些技术是：物理学，光学，化学，材料科学，精密机械，无锡步进光刻机，精密控制，工程学等等。在过往的20几年中，光刻机作为半导体制造业的重要设备，步进光刻机，经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为：分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2－8]：大NA非球面镜光学系统，短波长光源，分辨率增强技术（降低K1因子），同步扫描工件台等。
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