技术前景
除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC，步进光刻机， IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，无锡步进光刻机，比如EUV（极紫外线光刻），步进光刻机，用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
性能指标光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
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